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导读 光刻胶（photoresist，也作光致抗蚀剂，光阻），是一种由聚合物树脂（resin），光敏化合物（photoactive compound）和溶剂等混合而成的胶...
光刻胶（photoresist，也作光致抗蚀剂，光阻），是一种由聚合物树脂（resin），光敏化合物（photoactive compound）和溶剂等混合而成的胶状液体，从成份上来讲，都是碳基有机化合物。
树脂，作为粘合剂的聚合物混合物，决定了光刻胶的机械和化学性能；光敏化合物，决定了光刻胶的光敏感度：当受到特定波长能量束作用后，光敏化合物会分解或者聚合，激发化学反应，使受辐照区域在某些特定溶液中的溶解特性发生改变，或溶解性被增强或变得更难溶，进而形成光刻胶图案；溶剂，则可以改变光刻胶的粘度，从而在合理的转速范围内得到所要的厚度。